1. 结构（Structure）

• 分子式：C₄H₁₁NO

• 结构式：
  CH₃O-CH₂-CH₂-CH₂-NH₂
  （伯胺基：-NH₂；甲氧基：-OCH₃）

• CAS号：5332-73-0

• 别名：

  • γ-甲氧基丙胺

  • 甲氧基丙胺

  • MOPA

结构特点：

• 柔性碳链：-O-CH₂-CH₂-CH₂-NH₂ 提供分子柔性与溶解性。

• 双官能团：亲水性甲氧基 + 高反应性伯胺基。

2. 特性（Properties）

物理性质

化学性质

1. 中等碱性：

   • 伯胺基 pKa ≈ 10.2，可中和酸性物质。

2. 反应活性：

   • 伯胺基：易与环氧基、异氰酸酯、酰氯反应；

   • 甲氧基：耐水解性优于酯基，稳定性高。

3. 低毒性：

   • 皮肤刺激性弱于其他胺类（仍需防护手套）。

4. 低粘度：

   • 粘度约 1.1 mPa·s（25°C），利于工业混合。

3. 核心应用（Applications）

1. 电子化学品（核心领域）：

   • 光刻胶显影剂：作为极性溶剂，调节显影液渗透性（半导体制造）。

   • 蚀刻液添加剂：增强铜/铝蚀刻均匀性（集成电路工艺）。

2. 医药中间体：

   • 合成β-受体阻滞剂（如美托洛尔）、抗肿瘤药物。

3. 水性涂料助剂：

   • 中和羧酸树脂，提升水性漆稳定性（替代氨水，减少气味）。

4. 农药合成：

   • 制备除草剂（如精喹禾灵）及杀虫剂中间体。

5. 气体处理：

   • 选择性吸收CO₂（弱碱性胺，能耗低于MDEA）。

4. 生产工艺流程

主流工艺采用 丙烯腈法（两步合成），兼顾效率与安全性：

步骤1：甲氧基化（合成中间体 3-甲氧基丙腈）

CH₂=CH-CN（丙烯腈） + CH₃OH（甲醇）  
→ CH₃O-CH₂-CH₂-CN（3-甲氧基丙腈）

• 条件：

  • 催化剂：强碱（NaOH/KOH） 或 甲醇钠

  • 温度：50–70°C

  • 压力：常压

• 关键控制：

  • 抑制副产物（丙烯腈二聚体），甲醇需过量（摩尔比 3:1）。

步骤2：催化加氢（还原腈基→胺基）

CH₃O-CH₂-CH₂-CN + 2H₂  
→ CH₃O-CH₂-CH₂-CH₂-NH₂（MOPA）

• 条件：

  • 催化剂：Raney Ni 或 Pd/C（选择性＞95%）

  • 温度：80–100°C

  • 压力：2–5 MPa（中压）

• 纯化：

  • 减压蒸馏（沸点120°C），去除残余甲醇、水、仲胺杂质。

5. 安全与环保

• 安全风险：

  • 易燃性（闪点低，需氮气保护储存）；

  • 蒸气对眼/呼吸道有刺激性（操作区需通风）。

• 环保设计：

  • 加氢尾气回收H₂循环利用；

  • 蒸馏残渣焚烧处理（含微量氰化物）。

5. 技术进展

• 绿色工艺探索：

  • 环氧丙烷路线：

    plaintext

     

    CH₂-CH-CH₃（环氧丙烷） + CH₃OH → CH₃O-CH₂-CH(OH)-CH₃  
    → 催化胺化 → MOPA

    优势：避免使用剧毒丙烯腈，原子经济性高。

总结

3-甲氧基丙胺（MOPA） 凭借 低毒性、低粘度、双官能团反应性，成为高端电子化学品和医药合成的关键中间体。其主流 丙烯腈法 工艺成熟，但需严格管控氰化物风险；新兴 环氧丙烷路线 更环保，是未来升级方向。应用端以半导体光刻胶显影剂为核心增长驱动力，需求持续攀升。
胺心匠造·全球智链——携手顶尖伙伴，定义表活新标准（上海益沣达化工科技）